Оптимизация управления процессом нанесения гальванического покрытия в ваннах с многосекционными анодами с использованием генетических алгоритмов

Abstract

Рассмотрен вопрос оптимального управления процессом нанесения гальванического покрытия в ванне с многосекционными анодами. Произведен анализ современных способов управления гальваническими процессами в ваннах с многосекционными анодами. Исследовано влияние плотности тока, межэлектродного расстояния, интенсивности перемешивания электролита, а так же форм и размеров обрабатываемых деталей на равномерность распределения толщины покрытия. В результате проведенных исследований установлен экстремальный характер зависимости равномерности покрытия от плотности тока и межэлектродного расстояния. Произведен анализ методов поиска экстремума. Разработан алгоритм решения задачи оптимального управления процессом нанесения гальванопокрытия в ванне с многосекционными анодами с использованием генетических алгоритмов. In this work the question of optimum control of process of electroplated coating in a bath with multisection anodes is considered. The analyses of processes of modern management methods in the plating bath with multisection anodes. The research effect of current density, distance between electrodes, the intensity of mixing the electrolyte and shapes and sizes of workpieces on the uniformity of the coating thickness. As a result of the conducted researches it is established the extremal character of dependence of uniformity of a covering on density of current and interelectrode distance is established. The analysis of methods of search of an extremum. An algorithm for solving optimal control application process tasks electroplating bath with multisection anodes using genetic algorithms.