Показать сокращенную информацию
dc.contributor.author | Лысич, Д.В. | |
dc.contributor.author | Lysich, D.V. | |
dc.date.accessioned | 2020-11-30T06:14:23Z | |
dc.date.available | 2020-11-30T06:14:23Z | |
dc.date.issued | 2017 | |
dc.identifier.citation | Лысич, Д.В. Использование параметра растворимости для подбора растворителей термообработанных полимерных позитивных фоторезистных масок, применяемых во «взрывной» фотолитографии / Д.В. Лысич // Вестник ЮУрГУ. Серия «Химия». – 2017. – Т. 9, № 3. – С. 26–36. DOI: 10.14529/chem170304 Lysich D.V. Using Solubility Parameter for Selection of Solvents for Thermo-Processed Polymer Positive Photoresist Masks Applied in “Lift-Off” Photolithography. Bulletin of the South Ural State University. Ser. Chemistry. 2017, vol. 9, no. 3, pp. 26–36. (in Russ.). DOI : 10.14529/chem170304 | ru_RU |
dc.identifier.issn | 2412-0413 | |
dc.identifier.uri | http://dspace.susu.ru/xmlui/handle/0001.74/30901 | |
dc.description | Лысич Дарья Владимировна – аспирант кафедры «Фотохимия и спектроскопия», Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского. 603950, г. Нижний Новгород, пр. Гагарина, 23; ведущий инженер кафедры «Прикладная математика» Института радиоэлектроники и информационных технологий, Нижегородский государственный технический университет им. Р.Е. Алексеева, 603950, г. Нижний Новгород, ул. Минина, 24. Е-mail: ldv892551@mail.ru. D.V. Lysich, ldv892551@mail.ru Lobachevsky State University of Nizhni Novgorod, Nizhny Novgorod, Russian Federation; Nizhny Novgorod State Technical University n.a. R.E. Alekseev, Nizhny Novgorod, Russian Federation | ru_RU |
dc.description.abstract | Определен параметр растворимости для позитивного фоторезиста на основе ново- лачных смол и орто-нафтохинондиазидов. Параметр растворимости использован для изучения растворимости фоторезистов в обычной и «взрывной» (обратной) фотолитографии. Изучено влияние присутствия водородных связей на изменение величины параметра растворимости. Рассчитано изменение параметра растворимости фоторезиста при экспонировании его УФ светом. Предложены критерии отбора состава проявителя для позитивных фоторезистов для осуществления «взрывной» (обратной) фотолитографии. The solubility parameter for positive photoresist based on novolac resins and orthonaphthoquinone diazides was determined. The solubility parameter was used to study the solubility of photoresists in conventional and “lift-off” (reverse) photolithography. The influence of the presence of hydrogen bonds on the change of the value of the solubility parameters was studied. The change in the photoresist solubility parameter was calculated at exposure to UV light. The criteria for the selection of the developer compositions for positive photoresists for implementation of ″lift-off″ (reverse) photolithography were developed. | ru_RU |
dc.language.iso | other | ru_RU |
dc.publisher | Издательский центр ЮУрГУ | ru_RU |
dc.relation.ispartof | Вестник ЮУрГУ. Серия Химия | |
dc.relation.ispartof | Vestnik Ûžno-Ural’skogo gosudarstvennogo universiteta. Seriâ Himiâ | |
dc.relation.ispartof | Bulletin of SUSU | |
dc.relation.ispartof | Вестник ЮУрГУ. Серия Химия | ru |
dc.relation.ispartof | Vestnik Ûžno-Ural’skogo gosudarstvennogo universiteta. Seriâ Himiâ | en |
dc.relation.ispartofseries | Химия;Т. 9 | |
dc.subject | УДК 678.74.325 | ru_RU |
dc.subject | УДК 541.64 | ru_RU |
dc.subject | УДК 776.17 | ru_RU |
dc.subject | «взрывная» фотолитография | ru_RU |
dc.subject | параметр растворимости | ru_RU |
dc.subject | смеси растворителей | ru_RU |
dc.subject | энергия когезии | ru_RU |
dc.subject | ван-дер-ваальсов объем | ru_RU |
dc.subject | сшивка | ru_RU |
dc.subject | водородная связь | ru_RU |
dc.subject | "lift-off" photolithography | ru_RU |
dc.subject | solubility parameter | ru_RU |
dc.subject | mixtures of solvents | ru_RU |
dc.subject | cohesive energy | ru_RU |
dc.subject | van der Waals volume | ru_RU |
dc.subject | crosslinking | ru_RU |
dc.subject | hydrogen bond | ru_RU |
dc.title | Использование параметра растворимости для подбора растворителей термообработанных полимерных позитивных фоторезистных масок, применяемых во «взрывной» фотолитографии | ru_RU |
dc.title.alternative | Using Solubility Parameter for Selection of Solvents for Thermo-Processed Polymer Positive Photoresist Masks Applied in “Lift-Off” Photolithography | ru_RU |
dc.type | Article | ru_RU |
dc.identifier.doi | DOI : 10.14529/chem170304 |