Использование параметра растворимости для подбора растворителей термообработанных полимерных позитивных фоторезистных масок, применяемых во «взрывной» фотолитографии

Abstract

Определен параметр растворимости для позитивного фоторезиста на основе ново- лачных смол и орто-нафтохинондиазидов. Параметр растворимости использован для изучения растворимости фоторезистов в обычной и «взрывной» (обратной) фотолитографии. Изучено влияние присутствия водородных связей на изменение величины параметра растворимости. Рассчитано изменение параметра растворимости фоторезиста при экспонировании его УФ светом. Предложены критерии отбора состава проявителя для позитивных фоторезистов для осуществления «взрывной» (обратной) фотолитографии. The solubility parameter for positive photoresist based on novolac resins and orthonaphthoquinone diazides was determined. The solubility parameter was used to study the solubility of photoresists in conventional and “lift-off” (reverse) photolithography. The influence of the presence of hydrogen bonds on the change of the value of the solubility parameters was studied. The change in the photoresist solubility parameter was calculated at exposure to UV light. The criteria for the selection of the developer compositions for positive photoresists for implementation of ″lift-off″ (reverse) photolithography were developed.