Abstract:
Определен параметр растворимости для позитивного фоторезиста на основе ново-
лачных смол и орто-нафтохинондиазидов. Параметр растворимости использован для изучения растворимости фоторезистов в обычной и «взрывной» (обратной) фотолитографии. Изучено влияние присутствия водородных связей на изменение величины параметра растворимости. Рассчитано изменение параметра растворимости фоторезиста при экспонировании его УФ светом. Предложены критерии отбора состава проявителя для позитивных фоторезистов для осуществления «взрывной» (обратной) фотолитографии. The solubility parameter for positive photoresist based on novolac resins and orthonaphthoquinone
diazides was determined. The solubility parameter was used to study the solubility
of photoresists in conventional and “lift-off” (reverse) photolithography. The influence
of the presence of hydrogen bonds on the change of the value of the solubility parameters
was studied. The change in the photoresist solubility parameter was calculated at exposure to UV light. The criteria for the selection of the developer compositions for positive photoresists for implementation of ″lift-off″ (reverse) photolithography were developed.
Description:
Лысич Дарья Владимировна – аспирант кафедры «Фотохимия и спектроскопия», Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского. 603950, г. Нижний Новгород, пр. Гагарина, 23; ведущий инженер кафедры «Прикладная математика» Института радиоэлектроники и информационных технологий, Нижегородский государственный технический университет им. Р.Е. Алексеева, 603950, г. Нижний Новгород, ул. Минина, 24. Е-mail: ldv892551@mail.ru.
D.V. Lysich, ldv892551@mail.ru
Lobachevsky State University of Nizhni Novgorod, Nizhny Novgorod, Russian Federation;
Nizhny Novgorod State Technical University n.a. R.E. Alekseev, Nizhny Novgorod,
Russian Federation
